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九峰山實驗室新型SiC Trench MOSFET科研級器件樣品發(fā)布!

日期:2025-08-06 閱讀:1382
核心提示:九峰山實驗室(JFS Laboratory)推出新型SiC Trench MOSFET科研級器件樣品,旨在滿足產(chǎn)業(yè)及科研機構(gòu)對具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的SiC溝槽新型器件的測試、分析及應(yīng)用探索需求,進一步推動下一代碳化硅溝槽型MOSFET功率器件的產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

 近日,九峰山實驗室(JFS Laboratory)推出新型SiC Trench MOSFET科研級器件樣品,旨在滿足產(chǎn)業(yè)及科研機構(gòu)對具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的SiC溝槽新型器件的測試、分析及應(yīng)用探索需求,進一步推動下一代碳化硅溝槽型MOSFET功率器件的產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

 

 此次推出的科研樣品分為兩種IP結(jié)構(gòu):

1、SiC膠囊溝槽MOSFET科研樣品

基于九峰山實驗室完全自主IP的SiC膠囊型溝槽MOSFET結(jié)構(gòu),結(jié)合優(yōu)化設(shè)計的新型終端技術(shù),提供高可靠性SiC Trench MOSFET。核心專利包括CN114141627A、CN114464680A、CN114883412A等。

規(guī)格:BV≥1400 V,60~80 mΩ,可為客戶提供bare die (有源區(qū)面積約3.35mm*3.35mm)或者TO-247 3 pin封裝形式的器件,適用于特定測試及應(yīng)用場景。10~40 mΩ器件正在流片中,可接受定制化開發(fā)。

 

元胞結(jié)構(gòu)

 

終端結(jié)構(gòu)

 

(左)阻斷特性(右)導通特性 

2、SiC周期性兩側(cè)深掩蔽溝槽MOSFET科研樣品

基于九峰山實驗室完全自主IP的SiC雙側(cè)深掩蔽溝槽MOSFET結(jié)構(gòu),已通過HTGB、H3TRB,HTRB可靠性檢測。核心專利包括:CN118472041B、CN119486224A、CN119997569A、CN119342864B等。

 

元胞結(jié)構(gòu)

 

(左)阻斷特性(右)導通特性

規(guī)格:BV≥1400 V,20~80 mΩ,Ronsp~ 2-2.4mOhm.cm2;可為客戶提供bare die(有源區(qū)面積約3.35mm*3.35mm)和TO-247 3 pin封裝形式的器件,適用于特定測試及應(yīng)用場景。16mΩ以下芯片(有源區(qū)面積約5mm*5mm)正在流片中,可接受定制化開發(fā); 

3、TO247封裝科研樣品數(shù)據(jù)及可靠性測試

科研樣品都經(jīng)過電性能篩選測試,及第三方可靠性摸底1000Hrs測試。采用TO-247 3 pin封裝形式器件(有源區(qū)面積約3.35mm*3.35mm)的電性能實測數(shù)據(jù)如下:

   

1000h HTGB測試結(jié)果

 

1000h H3TRB測試結(jié)果 

咨詢及購買聯(lián)系方式:wangkuan@jfslab.com.cn

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